四靶协同磁控溅射系统(GY202402602)自购结果公示

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该项目经自行采购程序，允许自购： 供应商： 中国科学院**科学仪器股份有限公司 中标金额： ****** 公示开始日期 ****-**-** 公示截止日期 ****-**-** **:**:** 采购单位 集成电路学院 付款方式 货到验收合格后付款 签约时间要求 到货时间要求 收货地址 **省***高新区舜华路****号**大学软件园校区教研楼*B-B*** 采购清单* 采购物品 采购数量 计量单位 四靶协同磁控溅射系统 * 台 品牌 中国科学院**科学仪器 规格型号 PVD*** 技术参数 *.反应室为单室，不锈钢真空室尺寸不小于** cm×** cm，配不锈钢防污染内衬。可内烘烤到***～***℃。 *.工艺室真空：真空室极限真空优于**-*Pa(经烘烤除气后)，从大气抽真空到*×**-*Pa小于**分钟。 *.至少为四英寸片可旋转样品盘，带有电控气动挡板。四英寸范围内沉积均匀性≤±*%；批次间重复性≤±*%。 *. *个*英寸溅射源靶枪，靶枪或工件盘距离可调。每个靶枪带一个独立的电控气动挡板。 *.采用*台质量流量控制器控制* 路气体进气，气体流量范围*-*** sccm可调。 *. *个直流源，输出功率*-*** W；一个射频电源且自动匹配，输出功率*-*** W，任意两个靶枪可以实现共溅射。 *.加热：普通可旋转样品盘，转速可调，最大加热温度可达：***°C，精度±*%。 *.真空计探测器寿命长于*年，测量范围：*×***Pa-*×**-*Pa。 *.兼具全自动、手动、维修控制模式。 **.提供彩色可视图形化全自动控制系统，软件设计界面简易**，权限分级明确，有效防止误操作。工艺程序可预存，参数有记录。 售后服务 服务网点:当地;质保期限:*年;响应期限:报修后**小时; 资产与实验室管理部 ****-**-**